Elaborazione personalizzata del materiale target per lo sputtering dell'oro ad alta purezza

Informazioni basilari.

Modello numero.	purezza elevata
Codice SA	8486909100
Capacità produttiva	500

Descrizione del prodotto

Dal 2009, la nostra azienda ha investito e sviluppato la tecnologia del rivestimento a film sottile di sputtering sotto vuoto e del rivestimento ad evaporazione per chip di semiconduttori e microelettronica, ecc. Con il supporto tecnico di istituti di ricerca e medici/professori di rimpatriati all'estero, dopo molti anni di pratica, possediamo un team di ingegneri professionali per la produzione di target e la tecnologia di rivestimento a film sottile e eccellenti gruppi di vendita. Costruiamo e forniamo target personalizzati per sputtering sotto vuoto di elevata purezza e alta qualità, pellet per evaporazione sotto vuoto in metalli preziosi, leghe, ceramica e materiali diversi . Le dimensioni dei bersagli potrebbero essere di un certo spessore in formato rotondo, ovale e rettangolare, ecc. Potremmo fornire sia il bersaglio singolo che il bersaglio con la piastra di supporto incollata.

FAQ: Q1: Che tipo di controllo di qualità sui prodotti forniti? A1: TQC per materie prime, produzione, uscita e servizio clienti. Q2: Come puoi rispondere rapidamente alle richieste dei clienti? A2: Possediamo ingegneri di prodotto professionisti con atteggiamento di soddisfazione del cliente, buona gestione delle risorse dei prodotti. Q3: Pensi che i tuoi prodotti abbiano un prezzo competitivo? A3: Implementiamo completamente il sistema di gestione della qualità ISO9001, allo stesso tempo, disponiamo di un rigoroso sistema di gestione dei costi, abbinato all'ottimizzazione di controllo della produzione e il tasso di scarto più basso.